(苏威)索尔维Hyflon系列PFA和MFA特种聚合物
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| Hyflon® AD 产品牌号 |
| Hyflon® AD 40H |
| Hyflon® AD 40L |
| Hyflon® AD 60 |
| Hyflon® PFA 产品牌号 | Hyflon® MFA® 产品牌号 |
| Hyflon® PFA 120X | Hyflon® MFA® 1041 |
| Hyflon® PFA 125X | Hyflon® MFA® F1520 |
| Hyflon® PFA 140X | Hyflon® MFA® F1540 |
| Hyflon® PFA P420 | Hyflon® MFA® F1750X |
| Hyflon® PFA P430X | Hyflon® MFA® 6521 |
| Hyflon® PFA P450 | |
| Hyflon® PFA P455X | |
| Hyflon® PFA M620 | |
| Hyflon® PFA M640 |
| 特性 | AD 40 | AD 60 | |
| 密度 | g/cm3 | 1.98 | 1.93 |
| Tg | °C | 95 | 125 |
| 折射率 | 1.331 | 1.327 |
适用于半导体和膜应用的美国(苏威)索尔维Hyflon-AD
Hyflon® AD 是一系列非结晶全氟聚合物，其性能特性类似于半结晶性全氟聚合物。
主要特性
高温稳定性
良好的耐化学性
优异的疏水性
极低的表面能
低介电常数
极高的气体渗透性和选择性
出色的光学性能（如紫外线透射率高，而折射率低）
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD系列PFA非结晶全氟聚合物加工：
Hyflon® AD 聚合物具有一项与众不同的特征，即可在某些溶剂中溶解。尤其是它们在全氟溶剂中的高溶解性和低溶液粘度，使 Hyflon® AD 适用于溶液加工技术。
凭借流延或涂覆技术及热处理（远低于半结晶性全氟聚合物的常用烘烤温度），Hyflon® AD可以生产出均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）。
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD应用：
半导体
由于具有以下独特特性，Hyflon® AD 可用于生产电子产品的光罩护膜（显微光刻）：
出色的光学性能
极低的表面能
极低的介电常数
形成均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）的能力
适合采用溶液加工技术（喷涂、流延及旋涂）
在全氟溶剂中的溶解性（低溶液粘度）
渗透膜
由于具有以下优点，Hyflon® AD 适用于制备各种气体分离膜：
极高的气体渗透性和选择性
优异的疏水性
高温稳定性
形成均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）的能力
适合采用溶液加工技术（喷涂、流延及旋涂）
在全氟溶剂中的溶解性（低溶液粘度）。
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